名称:开锁机构框架
应用: 半导体设备
尺寸: 480*350*105mm
材质: AL-7075
表面处理: 阳极氧化
图面要求
A.B.C面为基准面其平面度分别为0.004mm,0.004mm,0.008mm。
A⊥B 0.008mm
B⊥C 0.012mm
A⊥C 0.012mm
F//A 0.012mmC/D 0.015mm
两侧8个精孔相对与BC基准的距离尺寸公差:0.01mm,并垂直于A面0.00mm,平行于C面0.004mm

名称:开锁机构框架
应用: 半导体设备
尺寸: 480*350*105mm
材质: AL-7075
表面处理: 阳极氧化
图面要求
A.B.C面为基准面其平面度分别为0.004mm,0.004mm,0.008mm。
A⊥B 0.008mm
B⊥C 0.012mm
A⊥C 0.012mm
F//A 0.012mmC/D 0.015mm
两侧8个精孔相对与BC基准的距离尺寸公差:0.01mm,并垂直于A面0.00mm,平行于C面0.004mm
